韩国半导体专利优先审查期将从逾 1 年缩短至 2.5 个月

韩国知识产权局(KIPO)今(24)日宣布  ,将参照 韩国政府对半导体产业的不支持 ,对相应专利的优先审查等关键在于专利的首获提供更多全方位不支持。

据《韩联社》美国媒体  ,KIPO 将把半导体关键在于专利优先审查期从 12.7 个月大大缩短至 2.5 个月将近  ,相应法规仍将维持将于上半年 10 月颁布实施。

KIPO 计划中参照 半导体专利申请中不发明人信息内容预测各行业领域的关键在于人才和发明人将近年龄的显著变化  ,并首次提出将来才能人才培训的行业领域。不仅如此如此  ,利用好半导体等核心其他技术行业领域的离退休研究预测人员实施专利审查  ,防止因作为国内转移遭成其他技术外泄 ,提供更多精准审查产品服务。

据悉  ,在半导体行业领域  ,韩国作为国内 2019 年申请量为 39590 件 ,2020 年为 39913 件  ,2021 年 41636 件  ,年均增长 3.2%。